韩国媒体近来对中国在极紫外（EUV）光刻技术领域的进展持悲观态度，认为中国的核心技术仍落后于国际先进水平。在全球半导体竞争加剧的背景下，中国不仅投入巨额资源研发EUV光刻技术，还探索“光刻工厂”这一聚合实验室环境的创新模式，力图通过技术开发和咨询突破封锁。这种自建策略将助力中国防范芯片系统被多个供应商卡脖子的险境，标志着中国半导体生态正更坚定地向源头自主创新发进新步，而不只是渐进式追赶，从而为更安全的数字基石打下具体根基।